EDI工藝生產(chǎn)的純水的電導(dǎo)率一般可以達(dá)到10^-6到10^-7us/cm的級別，甚至有些超純水可以達(dá)到更低的級別，如10^-9us/cm或者更低。這個級別的電導(dǎo)率相當(dāng)于純水中含有極少量的離子，這些離子的含量非常低，達(dá)到了十億分之一或者更少的級別，因此EDI工藝生產(chǎn)的水被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、電子工業(yè)、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域，要求水質(zhì)極高。

超純水是一種純度極高的水，通常用于電子、半導(dǎo)體、制藥、化工等領(lǐng)域的生產(chǎn)過程中。其純度達(dá)到了1-18.2MΩ.cm，相當(dāng)于每立方米的水中含有不到1毫克的雜質(zhì)和溶解物。超純水的制備過程相對比較復(fù)雜，需要經(jīng)過多個工藝步驟。下面詳細(xì)介紹一下超純水的制備過程。預(yù)處理系統(tǒng)（過濾，混凝，沉淀）——反滲透（膜）——離子交換（陰陽離子交換）——混床交換——紫外滅菌（殺菌）——消毒濾器

工業(yè)純水設(shè)備的工作原理主要包括以下幾個步驟：1.預(yù)處理：首先對原水進(jìn)行預(yù)處理，去除水中的懸浮物、泥沙、鐵銹、有機(jī)物等雜質(zhì)，這可以通過過濾、沉淀、膜分離等方法實(shí)現(xiàn)等。工業(yè)純水設(shè)備的優(yōu)勢主要體現(xiàn)在以下幾個方面：1.產(chǎn)水質(zhì)量高： 工業(yè)純水設(shè)備可以通過多種處理方式對水進(jìn)行凈化處理，從而得到高純度、高質(zhì)量的純水，可以滿足各種工業(yè)領(lǐng)域的使用要求。

EDI清洗是EDI裝置維護(hù)的重要工作之一，其步驟一般如下：1.準(zhǔn)備清洗劑：選擇合適的EDI清洗劑，按照產(chǎn)品說明書中的配比進(jìn)行混合。2.停止EDI系統(tǒng)：關(guān)閉EDI裝置的進(jìn)水閥、出水閥、電源開關(guān)等，使EDI系統(tǒng)處于停機(jī)狀態(tài)。3.排放殘留水：打開EDI系統(tǒng)的排放閥，將殘留的水排放出去。